那诺-马斯特NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统 _价格-那诺-马斯特中国有限公司

产品详情

电子束蒸发技术

NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统概述：

NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统有两种不同的构造可供选择。第一种为垂直紧连的双腔架构，其中主腔体是14英寸的立方体，其内有样品台，底部二级腔体则用于安置电子束源。这种构造可在两个腔体之间装有门阀互锁，可实现主腔体放取片过程保持电子束源和坩埚的真空状态。若需实现自动上下片，通过在主腔体左边增加带真空阀门的进样室即可。这样，主腔体可以持续保持10^-7托范围的低压，装片后几分钟内就可进行蒸镀。第二种构造为一个独立大腔体，基板上安装电子束蒸镀腔、磁控枪和热蒸镀。该构造可涂覆多种尺寸的晶圆，过程中使用行星运动的样品台。

NANO-MASTER公司可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。

NEE-4000系统特点：

电抛光14"立方体或21"x21"x22"不锈钢优化蒸镀腔体
680 l/sec 涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
4x 15CC pocket电子枪
电子束源和基片遮板
6KW开关电源，杰出的消弧性能
自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器
膜厚监测，可设置目标膜厚作为工艺终点条件
旋转样品台，提供高均匀性
带观察视窗的腔门，便于放片/取片
PC全自动控制，具有高度的可重复性
Labview软件的计算机全自动工艺控制控
多级密码保护的授权访问设计
EMO保护以及完全的安全联锁

NEE-4000系统可选项:

基片加热(最高可到800℃)或冷却
带旋转的倾斜沉积
行星运动式基片夹具
基片RF/DC偏压
基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀
附加物理沉积源（热蒸镀，磁控溅射）
用于反应蒸镀的MFC
不同的泵组选择
进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹

NEE-4000系统应用:

剥离
光学涂覆
铜铟镓硒(CIGS)
约瑟夫森连接
OLED

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型号：	NEE-4000 (A)
产地：	美国
品牌：	那诺-马斯特
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