布鲁克美国BRUKER 进口摩擦磨损试验机 TriboLab CMP_价格-Jeio Tech Co., Ltd

产品详情

产品简介：

TriboLab CMP 利用其前身产品（Bruker CP-4）超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力（0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。

产品参数：

	TriboLab CMP
测量能力	桌面型化学机械抛光测试平台
系统属性	集成高速/大扭矩旋转马达
	同服控制精准加载载台;电动定位水平载台
	负载/摩擦力传感器，用于抛光和抛光垫修正负载控制，测量和记录原位声发射和温度测量与记录
	机械零件的腐蚀防护;可编程双泵和冲洗泵系统
软件	布鲁克 CMP 操作和数据分析软件
电脑系统	Windows7,32位操作系统,2GB内存,＞250GB硬盘
垂直定位系统	最大行程:100mm
	分辨率:0.5um
	速度:0.001-10mm/s
水平定位和移动系统	最大行程:75mm
	分辨率:0.25um
	速度:0.001-10mm/s
晶圆头	转速:1-500rpm
	2英寸晶圆头压强范围:0.29-29psi
	4英寸晶圆头压强范围:0.07-7.2psi
	其它尺寸品圆头压强范围:0.9-90psi(4-400N)
	分辨率:20mN
底盘	转速:1-500rpm
底盘	底盘尺寸:直到9in(228mm)
修正器	加载范围:2-200N
	分辨率:10mN
	修正头尺寸:直到4.25 in
扭矩能力	5Nm，100RPM；2.5Nm，500RPM
温度测量	-25-1000℃
声发射响应范围	0.2-5.0MHz
可编程泵（选项）	流速:2.2-480mL/min
电源要求	220VAC.2.5kW
系统尺寸	394mm(宽)x610mm(深) x775(高)

产品特点：

专业的研发用小型ＣＭＰ系统

全面再现晶圆抛光工艺条件

提供无与伦比的测量重复性和细节

使用小晶片而不是整个晶圆作测试，节省大量成本

在线实时诊断，可以更好地了解抛光过程

更好地观测瞬时抛光特性

收集整个测试过程的数据，从晶圆基底接触抛光垫开始到测试结束

提供更完整、更详细的数据，帮助工艺开发早期做决定

灵活的样品类型、尺寸、和安装配置提供最广泛的适用性

可抛光任何平面材料，使用任何修正盘，抛光液和抛光垫

可容纳小晶片到100mm 晶圆，接受多样品夹具

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型号：	TriboLab CMP
产地：	美国
品牌：	布鲁克
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