近日，德国Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博会展 LASER World of Photonics上发布了全新双光子无掩模光刻打印系统 – Quantum X，并荣获创新奖。该奖项由交易会和英国出版社Europa Science赞助，以此来表彰Nanoscribe在设计用于折射和衍射微光学工业制造中的突出成绩和杰出表现。
“我们很高兴今天能够获得创新奖。”在颁奖典礼结束后，Nanoscribe首席执行官Martin Hermatschweiler强调说。“在经历了密集紧张的技术开发阶段后，这奖项对我们团队和QuantumX的出色表现来说都是一个非常好的认可。”Martin Hermatschweiler说道。
Quantum X 新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribe独家专利的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。
详细信息可咨询Nanoscribe中国子公司 - 纳糯三维科技（上海）有限公司
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