等离子清洗机在IC封装技术的应用

2019/03/14   下载量: 5

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应用领域 电子/电气
检测样本 电子元器件产品
检测项目
参考标准 等离子清洗在半导体领域的应用

1.等离子清洗不产生废液排放。 2.使用的氩气和氧气安全性高,无环境污染问题。 3.经过等离子体处理铜引线框架,可去除有机物和氧化层,同时活化和粗化表面,确保打线和封装的可靠性。

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1.等离子清洗的主要使用目的


■高分子材料表面官能基粘合性,贴合性提升。通过氧化反应,在表面生成-OH,

>C=O,-COOH等官能基(微量的水分和二氧化碳影响)。

即使是氮气等离子,表面被氮气原子包裹,也会生成-NH2的官能基。

■器件等保护膜脱离。

■原材料(金属,高分子,胶片,陶瓷等)表面改质。

■石棉前处理(膜滤器的灰化)。

■从电子器件到生物化学市场都可使用。

■PDMS芯片和玻璃,PDMS板的贴合。



2.等离子清洗的基本原理

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3.等离子灰化及清洗应用


■有机膜去除

●成型品离型剂

●锡焊残渣

●油・润滑剂(薄膜)

●有机膜(薄膜)

图片2.jpg


■表面改质

●聚酯,聚丙烯,聚酰亚胺

●陶瓷

●玻璃

图片3.jpg


4.等离子在IC封装技术的应用

图片5.jpg


5.等离子清洗的优势总结:

1.等离子清洗不产生废液排放。

2.使用的氩气和氧气安全性高,无环境污染问题。

3.经过等离子体处理铜引线框架,可去除有机物和氧化层,同时活化和粗化表面,确保打线和封装的可靠性。


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