资料摘要
资料下载MPCVD 法是在微波能量的作用下,将沉积气体激发成等离子体状态,在由微波产生的电磁场的 作用下,腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡,促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的 相互碰撞,从而有效地提高反应气体的离化程度,达到辉光发电,产生更高密度的等离子体。德国 iplas 公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术(CYRANNUS®),可在反应腔中实现极高的 SP3 键转 化率,使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团,从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积 质量得到改善,这正是获取优质金刚石的技术基础。德国 iplas 推出的微波等离子化学气相沉积系统 (MPCVD),其真空室的形式为金属腔-石英管一体式,压力操作范围从 10mbar 到室压范围,可制 备大尺寸、优质金刚石(工艺参数得当可制备出首饰级钻石)和高均匀性的金刚石厚膜。
金刚石作为半导体材料的应用
简介:作为一种优秀的材料,金刚石具有极高的硬度、热稳定性、光学透明性和电学特性,同时具备优异的热传导性和机械强度,这些特性为其在半导体行业中的应用提供了广泛的可能性。金刚石半导体的性质优异,具有高电子迁移率、高崩溃场、高饱和电子速度、高电子击穿场强和极低的自由载流子浓度等特性,被认为是第三代半导体材料的候选材料之一。
德国IPLAS MPCVD CYRANNUS 专利技术,第四代半导体,热沉积器件,光学窗口
简介:MPCVD 法是在微波能量的作用下,将沉积气体激发成等离子体状态,在由微波产生的电磁场的 作用下,腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡,促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的 相互碰撞,从而有效地提高反应气体的离化程度,达到辉光发电,产生更高密度的等离子体。德国 iplas 公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术(CYRANNUS®),可在反应腔中实现极高的 SP3 键转 化率,使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团,从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积 质量得到改善,这正是获取优质金刚石的技术基础。德国 iplas 推出的微波等离子化学气相沉积系统 (MPCVD),其真空室的形式为金属腔-石英管一体式,压力操作范围从 10mbar 到室压范围,可制 备大尺寸、优质金刚石(工艺参数得当可制备出首饰级钻石)和高均匀性的金刚石厚膜。Augsburg Diamond Technology GmbH利用化学气相沉积技术在外源衬底(异质外延)上合成单晶金刚石。同外延的普遍概念是需要适当尺寸的单晶金刚石作为种子,与此相反,我们的新方法采用多层体系Ir/YSZ/Si作为可扩展的衬底。 这一
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简介:FEATURES 特性 Beam size 4” to 12” sg. 尺寸为4 "到12 " sg Wave length 365um, 405um or dual wave length 波长365um, 405um或双波长 Dual Wave Length Tuning available 可进行双波长调协 Beam uniformity better than +/- 4% 光束均匀性优于+/- 4% Beam intensity up to ~25mW/cm2 光束强度可达~25mW/cm2 Easy to use touch screen interface 易于使用的触摸屏界面 Collimation angle <= 2 degrees 准直角< <= 2度 Dose control and timed exposure 剂量控制和定时曝光 USB remote interface for PC control USB远程接口的PC控制 Long working 长时间的工作
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