资料摘要
资料下载FEATURES 特性 Beam size 4” to 12” sg. 尺寸为4 "到12 " sg Wave length 365um, 405um or dual wave length 波长365um, 405um或双波长 Dual Wave Length Tuning available 可进行双波长调协 Beam uniformity better than +/- 4% 光束均匀性优于+/- 4% Beam intensity up to ~25mW/cm2 光束强度可达~25mW/cm2 Easy to use touch screen interface 易于使用的触摸屏界面 Collimation angle <= 2 degrees 准直角< <= 2度 Dose control and timed exposure 剂量控制和定时曝光 USB remote interface for PC control USB远程接口的PC控制 Long working 长时间的工作
文献贡献者
金刚石作为半导体材料的应用
简介：作为一种优秀的材料，金刚石具有极高的硬度、热稳定性、光学透明性和电学特性，同时具备优异的热传导性和机械强度，这些特性为其在半导体行业中的应用提供了广泛的可能性。金刚石半导体的性质优异，具有高电子迁移率、高崩溃场、高饱和电子速度、高电子击穿场强和极低的自由载流子浓度等特性，被认为是第三代半导体材料的候选材料之一。
德国IPLAS MPCVD CYRANNUS 专利技术，第四代半导体，热沉积器件，光学窗口
简介：MPCVD 法是在微波能量的作用下，将沉积气体激发成等离子体状态，在由微波产生的电磁场的 作用下，腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡，促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的 相互碰撞，从而有效地提高反应气体的离化程度，达到辉光发电，产生更高密度的等离子体。德国 iplas 公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现极高的 SP3 键转 化率，使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团，从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积 质量得到改善，这正是获取优质金刚石的技术基础。德国 iplas 推出的微波等离子化学气相沉积系统 （MPCVD），其真空室的形式为金属腔-石英管一体式，压力操作范围从 10mbar 到室压范围，可制 备大尺寸、优质金刚石（工艺参数得当可制备出首饰级钻石）和高均匀性的金刚石厚膜。Augsburg Diamond Technology GmbH利用化学气相沉积技术在外源衬底(异质外延)上合成单晶金刚石。同外延的普遍概念是需要适当尺寸的单晶金刚石作为种子，与此相反，我们的新方法采用多层体系Ir/YSZ/Si作为可扩展的衬底。 这一
德国IPLAS MPCVD微波等离子化学气相沉积系统
简介：MPCVD 法是在微波能量的作用下，将沉积气体激发成等离子体状态，在由微波产生的电磁场的 作用下，腔体内的电子相互碰撞并产生剧烈的振荡，促进了谐振腔内其它的原子、基团及分子之间的 相互碰撞，从而有效地提高反应气体的离化程度，达到辉光发电，产生更高密度的等离子体。德国 iplas 公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现极高的 SP3 键转 化率，使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团，从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积 质量得到改善，这正是获取优质金刚石的技术基础。德国 iplas 推出的微波等离子化学气相沉积系统 （MPCVD），其真空室的形式为金属腔-石英管一体式，压力操作范围从 10mbar 到室压范围，可制 备大尺寸、优质金刚石（工艺参数得当可制备出首饰级钻石）和高均匀性的金刚石厚膜。
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