SMEE 600系列光刻机 —— IC前道制造

SMEE 600系列光刻机 —— IC前道制造

参考价：面议
型号： 600系列
产地： 上海
品牌： --
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SMEE 600系列光刻机 —— IC前道制造


  SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

主要技术参数

型号

SSA600/20

SSC600/10

SSB600/10

分辨率

90nm

110nm

 280nm

曝光光源

ArF excimer laser

KrF excimer laser

 i-line mercury lamp

镜头倍率

 1:4

1:4

1:4

硅片尺寸

 200mm或300mm

200mm或300mm

200mm或300mm


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