型号: | PicoMaster200 |
产地: | 荷兰 |
品牌: | Raith/矽万 |
评分: |
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PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机
●250纳米分辨率(375纳米激光源)
●300纳米分辨率(405纳米激光源)
●4095灰阶
●业界最具实力的成套全息设计软件
●最大230x230毫米基板尺寸
PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器,专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理,搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头,确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻,LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻 ,三维加工全息影像等多个领域。
系统优点:
√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式;
√ 系统对准精度最高小于250纳米,线宽均匀性小于50纳米;
√ 系统最大支持9英寸基版,400毫米/秒扫描速度,200x200毫米曝光面积;
√ 系统采取全封闭结构设计,必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内,便于快速安装;
√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时,内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流;
√ 系统运动平台由机械缓振系统支撑,它将过滤掉绝大多数的噪音振动,以确保工作时的振动最小
激光直写:
√ 系统使用405纳米(可升级375纳米)激光源在感光层上曝光,不需订购或制作掩模,图案可随用户设计而改变;
√ 系统不使用掩模版,只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光,激光在靶区被连续地调制到规定的剂量;
√ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构,曝光后很容易溶解在显影剂中,只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。
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