方案摘要
方案下载应用领域 | 电子/电气 |
检测样本 | |
检测项目 | |
参考标准 | 痕量金属检测 |
痕量金属的检测和定量是半导体工业中的一个重要分析任务。 TOF-SIMS能够以同位素灵敏度检测所有元素(即使是轻质元素)。
案例一、痕量金属检测
痕量金属的检测和定量是半导体工业中的一个重要分析任务。 TOF-SIMS能够以同位素灵敏度检测所有元素(即使是轻质元素)。 高质量分辨率,高质量精度和良好的信噪比可使灵敏度达到1E7至1E9 atoms/cm2。 该技术可应用于带图案的硅片,甚至硅片的背面,也不会降低灵敏度。 该技术通过使用外部标准进行定量,其准确度与其他技术(如TXRF或ICP-MS)相当。 | |
如图所示硅片表面质谱的细节。高质量分辨率和准确度使得痕量金属可以明确被识别。 |
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