射频等离子体去胶机

PVA TePla 射频等离子体去胶机

——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验

PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。

PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。

IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。

PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。

型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )

典型应用：

光刻胶灰化

去除残胶

打底膜

表面精密清洁

去除氧化层

去除氮化层

表面活化

提高表面粘合性

改变表面亲水性/疏水性

分子接枝

涂层

规格参数：

阳极表面处理铝制腔体，

水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板

13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），

高灵敏快速自动匹配

水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板

不锈钢防腐蚀MFC，

多至6路工艺气体，

两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路

兼容8/12英寸及以下晶圆

模块化设计，维护保养简单

PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围

分级密码权限管理

图形化可视控制界面

外形尺寸：775×723×781 mm

重量：157KG

可选配置：

石英腔体

液态单体操作装置

可选配温控板

可选配法拉第桶

可选配压力控制系统

认证：

CE 认证

EN 61010

EN 61326

Semi E95

ISO 9001

CISPR 55011

NFPA79

NFPA70