气氛型可调高温加热装置

产品介绍

目前的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体，升温速率慢、无法实现变温环境模拟，且不同气氛环境以共用。在研的“工业级与科研级特种红外高温炉”，具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调（一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等）的优点。

气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合，并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。也可以根据用户的需进行定制。

更多应用

太阳能电池基板的热处理

在气氛环境下的热处理

各种材料的基础研究气氛退火热处理

模拟器渐变热处理

热循环热冲击试验研究

半导体材料的烧结和工艺退火炉

特点

设定从高速加热到低速加热的广泛条件

多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火

可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号

另外，可以在电脑上显示加蒸中的温度数据