微波等离子体去胶机VP-Q10等离子激发频率2.45GHz,真空腔体石英玻璃材料,腔体容积10升,中英文操作系统,触摸屏控制,频率2.45GHz有强的化学作用,适用于芯片去胶、晶圆去胶、半导体光刻胶去除、金属油污去除、半导体、塑料、PP、高分子等材料清洗,活化,蚀刻和改性。
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