原子层沉积系统

原子层沉积系统

参考价:¥400万
型号: R-200
产地: 芬兰
品牌: Picosun
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产品详情


芬兰PICOSUN公司是ALD技术发明人Tuomo Suntola创立的,与Picosun专家队伍被称为ALD的梦之队。

Suntola于1974年发明ALD技术,因此获得半导体行业European SEMI 2004奖。

PICOSUN公司凭借其杰出的生产型与科研型产品,于2022年6月加入美国应用材料公司。


PICOSUN产品分为科研型与生产型。

科研型产品有:

标准型PICOSUN™ R-200 Standard,只有热法原子层沉积系统

高级型PICOSUN™ R-200 Advanced,有热法原子层沉积系统等离子体增强原子层沉积系统

高级型ALD可以添加前沿的微波等离子体辅助增强模块Microwave Plasma, 这种微波等离子体增强原子层沉积系统在颗粒、薄膜致密性表现更好,同时有可能沉积具有挑战性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。


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北京伯英科技有限公司为您提供Picosun原子层沉积系统R-200,PicosunR-200产地为芬兰,属于外延系统,除了原子层沉积系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多外延系统,伯英科技客服电话,售前、售后均可联系。

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