型号: | R-200 |
产地: | 芬兰 |
品牌: | Picosun |
评分: |
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芬兰PICOSUN公司是ALD技术发明人Tuomo Suntola创立的,与Picosun专家队伍被称为ALD的梦之队。
Suntola于1974年发明ALD技术,因此获得半导体行业European SEMI 2004奖。
PICOSUN公司凭借其杰出的生产型与科研型产品,于2022年6月加入美国应用材料公司。
PICOSUN产品分为科研型与生产型。
科研型产品有:
标准型PICOSUN™ R-200 Standard,只有热法原子层沉积系统
高级型PICOSUN™ R-200 Advanced,有热法原子层沉积系统与等离子体增强原子层沉积系统
高级型ALD可以添加前沿的微波等离子体辅助增强模块Microwave Plasma, 这种微波等离子体增强原子层沉积系统在颗粒、薄膜致密性表现更好,同时有可能沉积具有挑战性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。
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