近红外II区NIR-II深度制冷科研红外成像相机

产品图片：

名称：
近红外II区（NIR-II）深度制冷科研相机（-80℃）
别名：NIR-II红外相机，NIR-II红外制冷相机，NIR-II红外低温相机，
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产品描述：

成像系统采用TE4深度制冷方式，低温度达到-80℃。
对成像单元（传感器）进行大范围、精确的温度控制，显著降低成像热噪声，提高图信比。
支持针对微弱信号的成像，支持超长的曝光时间，确保图像质量的曝光时间，图像质量非常好。
独特的静音式散热系统，保证使用用环境安静无干扰。
内置滤光元件接口极大简化外围成像路设计复杂性。
高透率石英真空密封装置对成像单元提供充足防护，高相机的性和使用寿命。
14-bitA/D为每个像素提供精确量化。

成像软件系统：

自主研发的成像分析软件（opto-X），可对成像系统的工作状态进行控制与显示，并实现图像、视频便捷的采集、存储与实时分析。
独特的灰度定量映射功能可针对图像明暗进行自定义，实现图像的实时增强。
双文件格式(*.tiff/*.jpg)图像存储，不但可存储图像原始数据，同时存储当前显示状态图像，包括灰度映射或添加伪彩后的图片。
所有视频直接存储原始数据，在回放中可实时截图。

应用：

适合从事生物学、医学、天文学等科研工作者，特别适用于生物医学荧光成像、材料学荧光成像、荧光偏振成像、荧光寿命成像、天文成像和激光光斑分析等多种科研领域及军事、高端安防等应用领域。

产品参数：

应用案例：

示例 ：

滤光元件：1200nm LP

荧光材料：吲哚青绿（ICG）

相机参数

制冷温度：-80℃

曝光时间：0.3s

镜头：Edmund 50mm SWIR lens

光圈：F4.0

示例 2：

显微成像系统：奥林巴斯IX73 400X

滤光元件：1200nm LP 、810nm BP 、900nm DMLP

荧光材料：吲哚青绿

相机参数

制冷温度：-80℃

曝光时间：3000ms