鹏城半导体 PECVD设备 PC-006
鹏城半导体 PECVD设备 PC-006
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鹏城半导体 PECVD设备 PC-006

参考价:面议
型号: PC-006
产地: 广东
品牌: 鹏城
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核心参数
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产品详情

PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。


设备用途和功能特点

1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备,主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。

2、设备保护功能强,具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。

3、配置尾气处理装置。

设备安全性设计

1、电力系统的检测与保护

2、设置真空检测与报警保护功能

3、温度检测与报警保护

4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护

设备技术指标

 类型参数 
 样片尺寸 ≤φ6英寸(或3片2英寸)
 样片加热台加热温度 室温~ 600℃±0.1℃
 真空室极限真空 ≤7×10-5Pa
 工作背景真空 ≤8×10-4Pa
 设备总体漏放率 停泵12小时后,真空度≤10Pa
 样品、电极间距 5mm ~ 50mm在线可调
 工作控制压强 10Pa ~ 1500Pa
 气体控制回路 根据工艺要求配置
 单频电源的频率 13.56MHz
 双频电源的频率 13.56MHz/400KHz


工作条件

 类型参数 
 供电 三相五线制 AC 380V
 工作环境温度 10℃~ 40℃
 气体阀门供气压力 0.5MPa ~ 0.7MPa
 质量流量控制器输入压力 0.05MPa ~ 0.2MPa
 冷却水循环量 0.6m3/h 水温18℃~ 25℃
 设备总功率 7kW
 设备占地面积 2.0m ~ 2.0m

PECVD及太阳能薄膜电池设备

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鹏城半导体技术(深圳)有限公司为您提供鹏城半导体 PECVD设备 PC-006,鹏城PC-006产地为广东,属于国产化学气相沉积设备,除了鹏城半导体 PECVD设备 PC-006的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学气相沉积设备,鹏城半导体客服电话,售前、售后均可联系。

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