| 型号： | LSLM-500 |
| 产地： | 河南 |
| 品牌： | -- |
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产品介绍：
LSLM-500步进式光刻机是一种用于制造集成电路（IC）的装置，其在微小的硅片表面上可以形成数百万个微观电路元件，是复杂工艺的重要组成部分。
主要用途：步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。
可广泛应用于中小规模集成电路、 半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。
主要规格：可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光；最小线宽：达500nm；可以配合使用多种型号的正光阻 和负光阻。
可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、 FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。 应用领域：中小规模集成电路；半导体元器件；声表面波器件的研制和生产。
产品特点：
高精准度； 桌上型、体积小、内建计算机；
可客制化硬件与软件，以符合业界需求， 弹性适用于各种基底与形状。
参数：
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