RIE等离子刻蚀机Etchlab 200

RIE等离子刻蚀机Etchlab 200

参考价:面议
型号: Etchlab 200
产地: 德国
品牌: 德国SENTECH
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200

低成本效益高

RIE等离子蚀刻机Etchlab 200结合平行板等离子体源设计与直接置片。

升级扩展性

根据其模块化设计,等离子蚀刻机Etchlab 200可升级为更大的真空泵组,预真空室和更多的气路。

SENTECH控制软件

该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件,具有模拟图形用户界面,参数窗口,工艺编辑窗口,数据记录和用户管理。


Etchlab 200 RIE等离子刻蚀机代表了直接置片等离子刻蚀机家族,它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab 200的特征是简单和快速的样品加载,从零件到直径为200mm或300mm的晶片直接加载到电极或载片器上。灵活性、模块性和占地面积小是Etchlab 200 的设计特点。位于顶部电极和反应腔体的诊断窗口可以方便地容纳SENTECH激光干涉仪或OES和RGA系统。椭偏仪端口可用于SENTECH原位椭偏仪进行原位监测。

Etchlab 200等离子蚀刻机可以配置成用于刻蚀直接加载的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半导体,介质和金属。

Etchlab 200通过先进的SENTECH控制软件操作,使用远程现场总线技术和用户友好的通用用户界面。


南通宏腾微电子技术有限公司为您提供德国SENTECHRIE等离子刻蚀机Etchlab 200,德国SENTECHEtchlab 200产地为德国,属于进口等离子体刻蚀设备,除了RIE等离子刻蚀机Etchlab 200的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,宏腾微电子设备客服电话400-860-5168转6134,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 200天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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