SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔

参考价:面议
型号: sentech
产地: 德国
品牌: 德国SENTECH
评分:
核心参数
关注展位 全部仪器
展位推荐 更多
产品详情

德国Sentech 集成多腔等离子刻蚀和沉积机

 

高产量

等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。

 

研发

三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

 

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

 

用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。


南通宏腾微电子技术有限公司为您提供德国SENTECHSENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔sentech,德国SENTECHsentech产地为德国,属于进口等离子体刻蚀设备,除了SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,宏腾微电子设备客服电话400-860-5168转6134,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 200天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

相关产品

南通宏腾微电子技术有限公司为您提供德国SENTECHSENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔sentech,德国SENTECHsentech产地为德国,属于进口等离子体刻蚀设备,除了SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,宏腾微电子设备客服电话400-860-5168转6134,售前、售后均可联系。
Business information
工商信息 信息已认证
当前位置: 宏腾微电子设备 仪器 SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔

关注

拨打电话

留言咨询