型号: | LEEM II |
产地: | 德国 |
品牌: | 德国美克 |
评分: |
|
LEEM V系统非常紧凑,提供了很高的科学灵活性。主室周围的额外空间,由于90°扇形场,允许灵活安装蒸发或照明光源。晶体表面的直接实时成像使生长、分解、熔化、相变过程和表面扩散的动态研究成为可能。该系统使用简单,具有先进的计算机控制,易于校准。这使用户能够充分利用他们的研究时间。
LEEM V还可以使用几个组件进行升级,甚至扩展其功能。热离子LaB6电子枪是标准的电子源。或者,可以安装肖特基场发射极。自旋极化电子枪可用于高横向分辨率的快速磁畴成像。
可以添加成像动能分析仪来解析光发射电子的动能,例如使用he等离子体放电光源(hv≈21 eV)或聚焦的实验室x射线源。
亮点:
最高分辨率(< 8nm),最佳分辨率:4.6 nm
Leem, leed, mem, uv - peek, teem
快速样品交换
特高压原位晶体生长观察
宽样品温度范围(~ 100k至1800k)
先进的计算机控制
相关产品
高温熔炼和晶体生长电弧炉 法国ECM
激光加热基座晶体生长炉 法国Cyberstar
英国Nanobean NB5 电子束光刻机
K1-Fluo DMB科研级倒置共聚焦显微镜 Nanoscope system
NS200便携式激光拉曼光谱系统 Nanoscope system
NS3500三维激光共聚焦显微镜Nanoscope system
PVD&ALD集群系统
Swiss Cluster ALD高性能原子层沉积系统3D材料
Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统
12寸磁控溅射、电子束蒸发 英国Korvus 手套箱集成
PVD集群系统-多腔体 英国Korvus
桌面式磁控溅射仪 英国Korvus(兼容手套箱)
桌面式电子束蒸发E-beam 英国Korvus
LEED低能电子衍射仪 美国LK
俄歇电子能谱仪 美国LK
关注
拨打电话
留言咨询