赛默飞与EAG合作开发脉冲GDMS

　　赛默飞世尔科技和Evans Analytical Group合作开发脉冲GDMS用于非导电材料的深度剖析。

　　科学家将很快能够应用功能强大的高分辨率辉光放电质谱法(GDMS)分析非导电、高纯度材料样品。例如，用于平板显示器的高纯度蓝宝石，陶瓷，氧化铝粉末及硬盘驱动器组件薄层分析等。

　　GDMS目前可用于分析导电材料，如高纯度金属和用于微电子学、可再生能源、航空航天，医疗设备、核电等领域的半导体材料等。

　　为了扩展GDMS分析非导电材料的能力，赛默飞世尔科技与领先的材料表征实验室Evans Analytical Group (EAG)合作将“脉冲”离子源技术添加到GDMS，其目标是形成脉冲离子源与商业GDMS平台的集成功能。

　　标准辉光放电质谱分析使用样品作为阴极，施加电流，在样品和阳极之间形成辉光。采用脉冲模式，样品的表面被“溅射”，溅射出的原子通过质量分析仪测定。这种高度敏感的技术只需要很少或无需样品制备，一般在10分钟左右就可获得高品质的结果。除了用于分析非导电的样品，脉冲模式离子化也增强了仪器的稳定性、数据的精确度、并降低能量溅射，从而对某些类型的样品产生更好的分析结果。

　　EAG副总裁Karol Putyera说：“脉冲模式下的快速流动源是最好的辉光放电源。”赛默飞GDMS、ICPMS应用专家Joachim Hinrichs 说：“我们非常高兴看到辉光放电质谱法能够进行更广泛的材料分析。”