PHI表面分析庆祝2014年现代催化研究方法高级讲习班顺利召开

    2014年现代催化研究方法高级讲习班与于6月30日在桂林电子科技大学顺利召开。讲习班以研究生、高等院校青年老师、企业和科研院所相关技术人员为主要对象，着重讲解当前催化研究涉及的主要现代物理方法和基本原理。

   进几年来，现代催化研究方法高级讲习班先后由中国科学院大连化学物理研究所(2007)、浙江师范大学(2010年)、四川大学(2012年)、中国科学技术大学(2013年)成功举办，深受催化界同行的强烈支持和热烈欢迎。

    催化领域是表面化学的主要方向之一，所涉及的化学反应都在表面进行，因此表面分析技术成为研究催化剂不可或缺的重要手段。高德英特（北京）科技有限公司中国区技术与市场经理宋维先生、鲁德凤女士代表PHI表面分析技术参与了此次会议，主要介绍了全新扫描聚焦型XPS、三聚焦式飞行时间二次离子质谱仪（Trift V nano TOF-SIMS）在催化领域的应用。

    PHI开创新一代的扫描聚焦型XPS，极大的扩展了XPS的应用范围。扫描聚焦型XPS将X射线通过单色石英晶体直接聚焦至7.5μm，可观察催化剂在具有形貌载体上的分布及反应前后催化剂及产物的化学态变化。通过报告我们得知，对于一些球形载体的催化剂，催化剂的活性成分通常会分布在载体表面，研磨后活性成分会被载体信号所“淹没”。最好的表征方式为对单一颗粒进行直接表征。

    同时，目前PHI 5000 Versaprobe II 推出全新的样品处理室，样品处理室保证了样品经过特殊光源、电子束、离子束、气体反应后直接送至XPS的分析腔室，不经过暴露大气的过程，减少外部环境对催化剂表征的干扰。可以看到，处理腔室可以直接连接气体反应装置，气体的流量、温度、气压控制更加准确。

    高德将一如既往的支持中国表面分析事业的发展，加大参与并资助中国表面分析技术人才的培训工作。