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中科院长春光机所首个国家重大科研仪器专项通过验收

导读:8月25日,长春光机所首个国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项“1.5米扫描干涉场曝光系统”通过项目验收。

  2020年8月24-25日,国家自然科学基金委员会信息学部在长春组织专家对长春光机所承担的国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项“1.5米扫描干涉场曝光系统”进行了项目验收。该项目2013年年初启动,总经费8300万元,原本研制周期为5年。该项目也是长春光机所首次承担的基金委国家重大科研仪器设备研制专项。项目拟通过干涉场步进扫描曝光方式获得具有国际先进水平的大面积高精度全息光栅,进而满足深空探测、激光惯性约束核聚变等科学研究对特种光栅的战略需求。项目将突破精密光机结构加工、测量及系统装调技术,干涉场测量及相位锁定技术,关键环境控制技术等多个关键技术。

  会议成立了由中国计量科学研究院李天初院士担任组长的验收专家组,下设仪器测试专家小组,技术档案专家小组和财务专家小组。8月24日,验收专家组开展了仪器现场测试,并进行了技术档案和财务验收工作。8月25日,国家自然科学基金委信息科学部常务副主任张兆田主持了项目的验收评审会。

中科院长春光机所首个国家重大科研仪器专项通过验收

项目负责人巴音贺希格研究员汇报项目完成情况

  验收专家组对仪器技术指标进行了现场实地考察和仪器测试,对项目技术文件档案及归档情况、相关账务报告等进行了审核。经质询和讨论,一致同意项目通过验收。专家组认为,项目组全面完成了项目的研制任务,成功研制出1.5米扫描干涉场曝光系统,该仪器的各项工作性能均达到或超过了任务书指标;项目管理文件和技术文档记录全面,内容真实可靠,档案立卷符合规范要求;项目资金使用符合管理办法要求;项目执行期间,围绕单体大尺寸全息光栅制作的一系列核心物理和技术问题开展前沿探索和技术攻关,取得了系列重要研究成果、技术创新和突破。

  专项研制的仪器设备包括一台1.5米扫描干涉场曝光系统及四台制作全息光栅所需的辅助工艺设备。该项目主要面向高能拍瓦激光输出技术、激光惯性约束核聚变研究及高端光刻机产业等战略高科技领域对大面积全息光栅的迫切需求,研制了1.5米扫描干涉场曝光系统,其目标是具备以步进扫描多线曝光方式制作500mm×1500mm全息光栅的能力。经过7年的攻关,项目组通过解决和突破长程重载工作台超精密定位、曝光干涉场超精密测量及相位锁定等十几项基础问题和关键技术,研制出了拥有制作最大面积650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅能力的扫描干涉场曝光系统。该项目的顺利实施与验收,标志着我国具备了独立制作米级单体无拼缝全息光栅的能力,打破了由国外长期垄断的局面,对高能激光、可控核聚变、高端光刻等领域的技术与产业推进具有重大的战略意义。

来源于:仪器信息网

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  2020年8月24-25日,国家自然科学基金委员会信息学部在长春组织专家对长春光机所承担的国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项“1.5米扫描干涉场曝光系统”进行了项目验收。该项目2013年年初启动,总经费8300万元,原本研制周期为5年。该项目也是长春光机所首次承担的基金委国家重大科研仪器设备研制专项。项目拟通过干涉场步进扫描曝光方式获得具有国际先进水平的大面积高精度全息光栅,进而满足深空探测、激光惯性约束核聚变等科学研究对特种光栅的战略需求。项目将突破精密光机结构加工、测量及系统装调技术,干涉场测量及相位锁定技术,关键环境控制技术等多个关键技术。

  会议成立了由中国计量科学研究院李天初院士担任组长的验收专家组,下设仪器测试专家小组,技术档案专家小组和财务专家小组。8月24日,验收专家组开展了仪器现场测试,并进行了技术档案和财务验收工作。8月25日,国家自然科学基金委信息科学部常务副主任张兆田主持了项目的验收评审会。

中科院长春光机所首个国家重大科研仪器专项通过验收

项目负责人巴音贺希格研究员汇报项目完成情况

  验收专家组对仪器技术指标进行了现场实地考察和仪器测试,对项目技术文件档案及归档情况、相关账务报告等进行了审核。经质询和讨论,一致同意项目通过验收。专家组认为,项目组全面完成了项目的研制任务,成功研制出1.5米扫描干涉场曝光系统,该仪器的各项工作性能均达到或超过了任务书指标;项目管理文件和技术文档记录全面,内容真实可靠,档案立卷符合规范要求;项目资金使用符合管理办法要求;项目执行期间,围绕单体大尺寸全息光栅制作的一系列核心物理和技术问题开展前沿探索和技术攻关,取得了系列重要研究成果、技术创新和突破。

  专项研制的仪器设备包括一台1.5米扫描干涉场曝光系统及四台制作全息光栅所需的辅助工艺设备。该项目主要面向高能拍瓦激光输出技术、激光惯性约束核聚变研究及高端光刻机产业等战略高科技领域对大面积全息光栅的迫切需求,研制了1.5米扫描干涉场曝光系统,其目标是具备以步进扫描多线曝光方式制作500mm×1500mm全息光栅的能力。经过7年的攻关,项目组通过解决和突破长程重载工作台超精密定位、曝光干涉场超精密测量及相位锁定等十几项基础问题和关键技术,研制出了拥有制作最大面积650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅能力的扫描干涉场曝光系统。该项目的顺利实施与验收,标志着我国具备了独立制作米级单体无拼缝全息光栅的能力,打破了由国外长期垄断的局面,对高能激光、可控核聚变、高端光刻等领域的技术与产业推进具有重大的战略意义。