我国结构超滑技术处于国际领先水平，相关微纳加工设备自主可控——访深圳清力技术有限公司潘旭捷

仪器信息网讯 8月29日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。

会议期间，仪器信息网特别采访了深圳清力技术有限公司实验平台负责人、深圳超滑技术实验平台主任潘旭捷。据介绍，深圳超滑技术实验平台是由深圳市政府、深圳坪山区政府以及深圳清华大学研究院共同支持成立，总投资1.5亿，拥有200余台半导体制备和表征设备。实验平台一方面支撑结构超滑技术的研究，另一方面也对外开放，目前已经具备了6英寸MEMS芯片流片能力，同时也支持 MEMS器件、先进封装、微纳米光学、光电子、生物芯片等一系列些微纳米器件的工艺开发和打样，目前平台合作伙伴有100余家，合作项目200余项。

深圳超滑技术实验平台研究领域是结构超滑技术，研究覆盖基础物理机理、材料研究、相关微纳米级加工和表征技术，以及相关的应用及产业化。潘旭捷表示，当前结构超滑研究的关键技术主要在于材料制备和器件制备，需要协同光刻、刻蚀等一系列微加工技术来共同完成。结构超滑技术是我国原创的一项根技术，借助结构超滑技术有望助力各个材料或者设备厂商突破国外卡脖子问题。目前国内在结构超滑领域取得了不少新的突破，包括大面积的材料制备，结构超滑器件的制备等，均处于国际领先的阶段。深圳清力技术有限公司团队在结构超滑材料及器件制备的特色设备上做到自主研发，同时大部分通用微加工设备也属于国内完全可控。对于科技前沿研发需要用到的部分设备例如电子束光刻系统等，仍处于国外卡脖子的状态，亟待国内厂商攻关突破。

以下是现场采访视频：