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第三届“半导体工艺及封装检测新技术”网络会议回放视频上线!

导读:2024年5月9-10日,仪器信息网联合电子工业出版社共同主办了第三届“半导体工艺及封装检测新技术”网络会议。为响应广大参会者的需求,报告回放视频已全部上线,欢迎大家点击回看,温故知新。

2024年5月9-10日,仪器信息网联合电子工业出版社共同主办了第三届“半导体工艺及封装检测新技术”网络会议,并得到了日本电子、日立科学仪器、徕卡、SCIEX中国、青岛众瑞等多家仪器企业的大力支持。会议旨在邀请领域内专家围绕半导体产业常用的工艺与封装检测技术,从各种半导体制造工艺及封装检测技术等方面带来精彩报告。

会议共历时2天,20余名专家和近千名观众围绕薄膜沉积与外延及其检测技术、光刻与刻蚀及其检测技术、半导体封装及其检测技术、半导体失效分析及沾污检测四个专题展开线上讨论。会议过程中,听众积极参与,直播间氛围热烈。

会议的21个报告,经征求报告嘉宾意见,部分报告将设置视频回放,便于广大网友温故知新,详情见下表:

第三届“半导体工艺及封装检测新技术”网络会议回放视频上线!

第三届半导体工艺及封装检测新技术网络会议
05月09日薄膜沉积与外延及其检测技术
报告题目报告嘉宾回放链接
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第十族贵金属硫化物少层材料研究进展杨鹏云南大学 研究员不回放
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05月09日光刻与刻蚀及其检测技术
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05月10日半导体封装及其检测技术
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来源于:仪器信息网

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会议共历时2天,20余名专家和近千名观众围绕薄膜沉积与外延及其检测技术、光刻与刻蚀及其检测技术、半导体封装及其检测技术、半导体失效分析及沾污检测四个专题展开线上讨论。会议过程中,听众积极参与,直播间氛围热烈。

会议的21个报告,经征求报告嘉宾意见,部分报告将设置视频回放,便于广大网友温故知新,详情见下表:

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