2011年12月,中国工程院2011年当选名单公布,日立的小泉英明先生因为在他的专业(脑科学,教育学)方面的对中国的突出贡献而当选为2011年中国工程院外籍院士。目前,获得中国工程院外籍院士称号的日本人只有4名,而小泉英明先生是其中唯一来自企业的院士。
小泉技术长于1973年入职于日立,作为世界一流的研究开发研究者引领了公司的环境和医疗领域的研发业务。
小泉英明先生
在环境方面的突出贡献是,小泉技术长于1976年研发了高灵敏度分析包含在生体和环境中的微量金属的[偏振塞曼原子吸收法]的原理。此发明刊载于美国的科学杂志[Science],并于1985年荣获日本[50大重要发明]奖。此技术商品化的产品如今广泛用于国内外的自然环境保护领域,如今已有8000多台的销量。
在医疗仪器领域,小泉技术长作为MRI(Magnetic Resonance Imaging)开发项目的负责人,从事超电导MRI的商业化,于1986年开发研制了第一台超电导MRI(磁场强度0.5T)。1992年开发了能测量脑功能的功能性MRI,此仪器与东京大学合作实现了把人脑的主观精神活动如[想象],[记忆]等成像化的成果。
1995年,小泉技术长发表了近红外光谱技术作为日立独自的划时代的脑功能计测技术享誉国内外,2001年由日立医疗公司商品化。利用光测定大脑皮质的血流量不仅安全又对人体无损害,不需要特殊的测定环境,在自然状态下测定脑功能。因此,用于被认为无法实现的婴幼儿的脑功能描画等,广泛引进在学习,教育领域开拓崭新的世界。2003年1月,该项业绩被美国的科学杂志[MIT Technology Review]评选为[2002年世界四大突破技术]。同年11月,应邀于[罗马法王厅科学技术奖研讨会]并做了报告,得到了法王接见的殊荣。
在日本,小泉技术长也因此技术的开发与实用化得到了诸多奖项。
日立对于在技术研究上有卓越贡献的员工一向有积极鼓励支持制度,小泉英明于2004年4月1日被封为该公司第5位Fellow(作为研究者的最高荣誉)。日立今后也将不断挑战以及创新前沿技术来回报社会发展。
小泉英明先生简历:
1946年10月5日出生于日本东京
1971年6月 毕业于东京大学
1971年7月 如职于日制产业
1973年9月 如职于日立制作所
1979年9月 日立那珂工厂 光学仪器设计部技师
1983年2月 日立那珂工厂 光学仪器设计部主任技师
1992年8月 日立中央研究所 主管研究员
1999年8月 日立基础研究所 所长
2001年4月 日立中央研究所 主管研究长
2003年4月 日立基础研究所 主管研究长
2004年1月 荣获Fellow称谓
来源于:日立高新技术公司
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