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涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

导读:瑞福芯科技计划在江苏东台高新区投资10-15亿建设车规级SiC半导体功率模块项目,首期启动资金1亿元。纳设智能南通新生产基地获得审批,总投资6000万元,预计将形成年产CVD外延设备450台的能力。

近日,又有两个碳化硅相关项目披露了最新进展,分别为瑞福芯科技车规级SiC半导体功率模块产业化项目和纳设智能南通新生产基地项目,两个项目总投资超10亿元。


车规级SiC半导体功率模块产业化项目签约

8月13日,据瑞福芯科技官微消息,瑞福芯科技总经理周旭光与协同创新基金管理有限公司董事长李万寿及总经理丘炜雄、中科院先进研究院中科中孵总经理涂乐平、桉森芯(上海)微电子有限公司董事长陈建璋于8月9日组成项目调研团,一起就瑞福芯科技“车规级SiC半导体功率模块产业化项目”落地江苏东台高新区进行投资实地考察。

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

source:瑞福芯科技

考察后,瑞福芯科技与江苏东台高新区签定了《车规级SiC半导体功率模块产业化项目战略合作框架协议》。瑞福芯科技拟落地江苏东台高新区,投资10-15亿元建设第二研发中心和产业化生产基地,首期启动资金投入1亿元。

资料显示,瑞福芯科技成立于2022年10月,注册资本1000万人民币,经营范围含半导体分立器件制造、半导体分立器件销售、电子元器件制造、电力电子元器件制造等。

碳化硅业务进展方面,瑞福芯科技在去年2月与爱仕特签署战略合作协议,共同推动SiC功率模块在新能源汽车领域的应用。

据悉,瑞福芯科技已建立预计年产30万只的模块工厂,主要产品为车用SiC MOS功率模块。基于双方签署的战略合作协议,在未来数年内瑞福芯科技生产的SiC MOS模块将全部采用爱仕特的SiC MOS芯片,爱仕特将为瑞福芯科技批量供应车用功率模块所需的1200V/17mΩ及1700V/17mΩ的SiC MOS芯片,并协助瑞福芯科技建设模块工厂,保证其后续的量产需求。


纳设智能南通新生产基地环评获批

8月5日,据南通高新区消息,纳设智能位于南通市南通高新技术产业开发区双福路126号半导体光电产业园N2栋1F、4F的厂房近日获得环评审批。

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

环评信息显示,该项目总投资6000万元,通过购置超声波清洗机、电加热烤箱、光学装配平台、氦检仪、CV测试仪等生产设备进行CVD外延设备生产,项目建成后,预计形成年产R02型号CVD外延设备230台、R04型号CVD外延设备220台的生产能力。

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

source:纳设智能

在碳化硅外延设备细分领域,纳设智能6英寸碳化硅外延设备在2023年已批量出货给多家外延客户,也获得了批量验收,业绩相较于2022年增长了10倍。

在6英寸碳化硅外延设备出货基础上,纳设智能研发并交付了8英寸碳化硅外延设备,其具备独特的反应腔室设计、可独立控制的多区进气方式等特点,将更好的提高外延片的均匀性,降低外延缺陷及生产中的耗材成本。目前,该设备已销售给多个客户。

在碳化硅衬底细分领域,纳设智能自主研发的首台原子层沉积设备在完成所有生产和测试流程后,于今年1月顺利出货。原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种薄膜沉积技术,可归于化学气相沉积大类。

相对于一般化学气相沉积,其具有独特的表面自限制化学效应,因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料,实现更精确的厚度控制,可用于各类衬底材料的薄膜沉积。


来源于:集邦化合物半导体

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近日,又有两个碳化硅相关项目披露了最新进展,分别为瑞福芯科技车规级SiC半导体功率模块产业化项目和纳设智能南通新生产基地项目,两个项目总投资超10亿元。


车规级SiC半导体功率模块产业化项目签约

8月13日,据瑞福芯科技官微消息,瑞福芯科技总经理周旭光与协同创新基金管理有限公司董事长李万寿及总经理丘炜雄、中科院先进研究院中科中孵总经理涂乐平、桉森芯(上海)微电子有限公司董事长陈建璋于8月9日组成项目调研团,一起就瑞福芯科技“车规级SiC半导体功率模块产业化项目”落地江苏东台高新区进行投资实地考察。

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

source:瑞福芯科技

考察后,瑞福芯科技与江苏东台高新区签定了《车规级SiC半导体功率模块产业化项目战略合作框架协议》。瑞福芯科技拟落地江苏东台高新区,投资10-15亿元建设第二研发中心和产业化生产基地,首期启动资金投入1亿元。

资料显示,瑞福芯科技成立于2022年10月,注册资本1000万人民币,经营范围含半导体分立器件制造、半导体分立器件销售、电子元器件制造、电力电子元器件制造等。

碳化硅业务进展方面,瑞福芯科技在去年2月与爱仕特签署战略合作协议,共同推动SiC功率模块在新能源汽车领域的应用。

据悉,瑞福芯科技已建立预计年产30万只的模块工厂,主要产品为车用SiC MOS功率模块。基于双方签署的战略合作协议,在未来数年内瑞福芯科技生产的SiC MOS模块将全部采用爱仕特的SiC MOS芯片,爱仕特将为瑞福芯科技批量供应车用功率模块所需的1200V/17mΩ及1700V/17mΩ的SiC MOS芯片,并协助瑞福芯科技建设模块工厂,保证其后续的量产需求。


纳设智能南通新生产基地环评获批

8月5日,据南通高新区消息,纳设智能位于南通市南通高新技术产业开发区双福路126号半导体光电产业园N2栋1F、4F的厂房近日获得环评审批。

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环评信息显示,该项目总投资6000万元,通过购置超声波清洗机、电加热烤箱、光学装配平台、氦检仪、CV测试仪等生产设备进行CVD外延设备生产,项目建成后,预计形成年产R02型号CVD外延设备230台、R04型号CVD外延设备220台的生产能力。

涉及碳化硅功率模块和外延设备,2个项目刷新“进度条”

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source:纳设智能

在碳化硅外延设备细分领域,纳设智能6英寸碳化硅外延设备在2023年已批量出货给多家外延客户,也获得了批量验收,业绩相较于2022年增长了10倍。

在6英寸碳化硅外延设备出货基础上,纳设智能研发并交付了8英寸碳化硅外延设备,其具备独特的反应腔室设计、可独立控制的多区进气方式等特点,将更好的提高外延片的均匀性,降低外延缺陷及生产中的耗材成本。目前,该设备已销售给多个客户。

在碳化硅衬底细分领域,纳设智能自主研发的首台原子层沉积设备在完成所有生产和测试流程后,于今年1月顺利出货。原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种薄膜沉积技术,可归于化学气相沉积大类。

相对于一般化学气相沉积,其具有独特的表面自限制化学效应,因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料,实现更精确的厚度控制,可用于各类衬底材料的薄膜沉积。