北京正通远恒将参展2012年中国材料大会

我公司将参展2012年7月13-18在太原理工大学举办的2012年中国材料大会。届时我们将重点展示最先进的薄膜沉积设备原子层沉积系统（ALD）；PLD、PED薄膜沉积系统和纳米力学性能测试仪等，欢迎您届时光临展位指导交流。
 
ALD原子层沉积系统
——绝对领先的研发型和批量生产型ALD第一品牌！
芬兰Picosun公司的ALD原子层沉积系统始于1974年，拥有100多项专利技术。该公司在原子层沉积技术上的深厚背景，使其成为您研究ALD原子层沉积技术的最佳合作伙伴！
公司研究组成员简介：
Dr. Tuomo Suntola：1974年发明ALD技术，公司董事，2004年荣获欧洲SEMI奖。
Sven Lindfors：公司CTO，于1975年随Dr. Tuomo Suntola一起开始设计ALD反应器，世界上主流的ALD反应器基本上都采用了他的设计思路。
Ph.D Tech. Lauri Niinistö：董事会成员，赫尔辛基大学ALD研究小组带头人，从70年代开始ALD研究，该小组引领着世界ALD研究的方向，代表着世界ALD研究的最高水平。
 
应用：
太阳能电池、光电子、半导体材料、防静电涂层、光滤波材料、气体传感器、催化剂材料、介电及绝缘层、微电子绝缘体、改性的催化剂载体、扩散势垒层和钝化层、纳米结构（管、线等）、透明导电层和金属导体、半导体激光二极管LED、电致发光显示器中的发光层。
 

技术指标	SUNALETM R系列	SUNALETM P系列
晶片尺寸	2-8’’ , 50-200mm, 更大的可根据要求定制	可根据实际要求定制
反应室材料	316SS, Ti, Ni, Al(quartz)其他可根据要求定制	316SS, Ti, Ni, Al其他可根据要求定制
前躯体源数量	最多可达12个	可根据实际要求定制

PLD/PED 薄膜沉积系统
美国Neocera公司的PLD脉冲激光沉积系统为沉积高质量复杂材料的薄膜提供最可靠的解决方案。具有灵活性和扩展性的PLD系统可以选择：离子辅助IBAD、激光MBE、连续组成扩展CCS。这使得PLD系统成为一种新型的具有优越性能的多元复杂材料沉积方法。
可沉积的复杂、多组分薄膜有：
金属  绝缘体  半导体        生物兼容材料
超导材料  铁电材料  压电材料   电镀镜片    磁性材料
PED脉冲电子束沉积系统是一种新型的脉冲能量薄膜沉积技术。它应用脉冲电子束使真空腔体内的靶材快速蒸发，在基片上形成与靶材组成相同的薄膜。它可以在极短的时间内，在靶材表面产生很大的功率密度。适合所有薄膜材料的制备，包括难熔材料。

 
卓越的多功能纳米力学性能测试系统
带您进入纳米力学性能测试的真实世界
测量数据：
硬度  模量  蠕变  硬度-深度曲线  模量-深度曲线  应力-应变曲线   塑性指数   塑性功/弹性功
弹性模量/损耗模量/力学损耗   纳米磨损性能  纳米划痕临界载荷   表面磨擦及形貌图   粘结失效  断裂韧性  冲击性能   接触疲劳强度
 

应用： 航空航天     汽车工业   半导体 生物医学     MEMS      高分子 薄膜和涂层   太阳能   燃料电池

主要优点：多功能、热漂移小（0.004nm/s）、数据稳定可靠（完全符合ISO14577）
NanoTest^TM Vantage是一个模块化系统，它可以根据用户需要和研究兴趣进行扩展和升级。
独特的摆锤立式设计和水平加载的结构，使得NanoTest^TM Vantage能够实现下面
被证实了的独一无二的性能测试：
纳米冲击和疲劳测试（欧洲专利1095254）
750℃的高温测量
低温测量
液体测量池
加载-部分卸载技术