可变蒸镀领域型有机蒸发装置-最适合高品质有机薄膜的蒸镀以及多源蒸镀！

控制蒸镀范围的同时，通过低蒸镀速率实现薄膜的制备可以实现高结晶性的有机薄膜的制备
对少量有机材料的有效蒸镀，可削减材料使用成本
采用飞行器设计，可实现基板附近的蒸镀
Z操作台的使用，可避免与现有设备的干扰
手动挡板及可变控制蒸镀范围，能将蒸镀腔的污染控制到最小

蒸镀范围：Φ20～ （根据蒸镀距离可调整）
蒸镀速度：数原子层/min
安装法兰：Φ70ICF
坩埚温度计：TYPE-K
付挡板

【可蒸镀材料】
：分子
：诱导体
：分子　其他


                用AEV-OD蒸镀的C40H20膜的X射线反射结晶结构　　　　　　　　　　顶顶顶顶 水晶振动式膜厚计测定数据
                 （根据累计膜厚和蒸镀时间推算出的蒸镀率）