SNEC2013第七届（2013）国际光伏展
我公司将参展2013年5 月14-16日在上海新国际博览中心举办的SNEC2013第七届（2013）国际光伏展，展位号：E3-901. 欢迎新老客户光临展台交流、指导。
届时我们将重点展示Picosun世界领先的ALD原子层沉积设备。
PICOSUN ALD原子层沉积系统
——绝对领先的研发型和批量生产型ALD第一品牌！
芬兰Picosun公司的ALD原子层沉积系统始于1974年，拥有100多项专利技术。该公司在原子层沉积技术上的深厚背景，使其成为您研究ALD原子层沉积技术的最佳合作伙伴！
PICOSUN® R-系列ALD系统
应用于研发领域的手动或半自动产品
PICOSUN® P-系列ALD系统
应用于研发和生产领域的手动或半自动产品
应用：
太阳能电池
光电子
半导体材料
防静电涂层
光滤波材料
气体传感器
催化剂材料介
电及绝缘层
微电子绝缘体
改性的催化剂载体
扩散势垒层和钝化层
纳米结构（管、线等）
透明导电层和金属导体
半导体激光二极管LED
电致发光显示器中的发光层
来源于：北京正通远恒科技有限公司
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