美国瓦里安公司发布最新系列ICP-MS产品

        11月14日，美国瓦里安公司向外界展示了该公司最新两款ICP-MS产品——Varian 
810-MS和820-MS。瓦里安公司科学仪器部副总裁Martin O’Donoghue先生表示，810-
MS和820-MS采用的核心技术是瓦里安公司获得专利的高效90°离子光学系统和双离轴
（off axis）四极杆，因此810-MS和820-MS具有非常出色的低背景噪音和灵敏度。此外，
820-MS还采用了瓦里安公司完美的干扰消除技术——碰撞反应接口（CRI）技术，此项技术目前正在申请专利。该技术的创新特点在于可进行自动调谐，并且可将仪器设置程序化。对于复杂基质样品中的较难分析元素而言，820-MS可以非常轻易地达到极低的检出限和更高的定量分析准确度。

        当前，环境、地质化学和半导体领域的许多实验室均倾向于使用带有干扰消除技术的
ICP-MS产品，该技术使得对水、土壤以及化学和生物样品中的痕量元素（包括As、Fe、
Se、Cr、V等）的分析准确度更高。

        与瓦里安公司竞争对手们所采用的干扰消除技术不同的是，CRI技术无需使用有腐蚀性的气体，如：氨气和甲烷，而且这些气体往往价格昂贵。CRI采用的是简单的氦气，这样一来既增强了安全性，易于使用，同时降低了仪器的运行成本。另外需要指出的一点是，
CRI设计上的独到之处使其无需额外维护，而传统的干扰消除系统需要定期停机对其进行清洗和保养。

        CRI独特的设计可以使用户在两种模式下运行820-MS——主动CRI模式和非主动CRI模式（两种模式之间可快速切换），从而大大提高了用户分析样品时的灵活性。此外，对于
LC-ICP-MS联用技术而言，全新的ICP-MS产品系列与瓦里安公司的Galaxie软件完全兼容，可实现实时信号显示和全色谱数据扣除。