杜邦™Posistrip®

EKC800™系列

光刻胶剂

用于正光刻胶去除

产品描述

杜邦™Posistrip®光抗蚀剂是有机混合物

专门用于去除正光刻胶

微电子工业中使用的基板表面。

配制以满足广泛的工艺要求，

Posistrip®产品从轻度侵袭非碱性

从敏感金属中去除光刻胶的化学方法

层或衬底，如GaAs，非常腐蚀性碱性

去除极硬化光刻胶的化学方法。

这些水可冲洗配方允许用户完成

光刻胶去除过程中所含化学成分较少且较低

拥有成本(CoO)。这些产品金属离子含量低，

对敏感金属无腐蚀性，不含酚或

氯化溶剂。Posistrip®产品兼容

自动设备，便于从手动转换

潮湿的站点环境。

DuPont™Posistrip®EKC800™系列光刻胶

消毒剂包括:

Posistrip®EKC800™

设计用于去除已经历过的正光刻胶

具有正常热历史的标准加工。

Posistrip®EKC830™

设计用于有效去除所产生的正光刻胶

从粗糙的前期处理中难以去除。

Posistrip®EKC865™

专门用于防止敏感金属的攻击。

去除正光刻胶与正常热历史