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产品简介：本产品广泛用于各种温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、纳米薄膜；能够适应未来温条件下成膜的科学的发展
*涂膜速度在0～100mm/秒范围内可调；
*真空铝盘，可快速放置或取下基片；
*在10～250mm之间可通过行程开关调整行程；
*带调整涂膜厚度（度0.01mm）的刮刀；
*涂膜速度：0～100mm/秒；
*行程：250mm；
*真空板：带真空铝平板 ；
*真空板尺寸：L365mm×W200mm×H30mm；
*刮刀可调范围：0.01～3.5mm；
*加热烘干系统：室温～200℃,数显温度控制器,度±1℃
*电源：220V/50Hz；
（1）.将片放在真空板上，启动电源，开启真空，片吸附在真空板上；
（4）.取出涂膜器和推杆，盖上发热盖，设定加热温度和时间，行加热烘干；
（5）.烘干成后，翻开发热盖，取出涂膜好的片，将涂膜装置复位成；
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