PHI QuanteraII扫描聚焦x射线光电子能谱仪

报价 ¥500万 - 800万

品牌

ULVAC-PHI

型号

PHI Quantera II

产地

亚洲日本

应用领域

暂无
该产品已下架

概要
PHI Quantera II扫描XPS探针是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的 Quantum 2000 和Quantera SXM之上延伸后所最新研究的XPS分析仪器,其革命性超卓技术包括有:一个独创的微集中扫描的X射线源,专利的双光束的电荷中和技术,在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析;一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂;以及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。PHI Quantera II增加了这些革命性的技术性能和生产力,再一次提供了最高性能的XPS系统以满足当前和未来的XPS需要。

产品参数:
•检测项目指标值 ;
&bull;系统到达真空<5x10-10 torr ;
&bull;Ag样品XPS光电子能量分辨率Ag 3d 5/2 峰半高宽FWHM < 0.50 eV ;
&bull;PET 样品XPS光电子能量分辨率C1s的O=C-O峰半高宽FWHM < 0.85 eV ;
&bull;最小X射线斑束<9.0&mu;m 在x 方向;
&bull;<9.0&mu;m 在y 方向;
&bull;常用X射线斑束 ;
&bull;<10.0 &mu;m @ <1.25 watts ;
&bull;<15.0 &mu;m @ <2.50 watts ;
&bull;<20.0 &mu;m @ <4.50 watts ;
&bull;X-ray XPS灵敏度和能量分辨率X-ray Beam Energy Sens. Size Res ;
&bull;> 15kcps <10.0 &mu;m <0.60 eV ;
&bull;> 30kcps <15.0 &mu;m <0.60 eV ;
&bull;> 55kcps <20.0 &mu;m <0.60 eV ;
&bull;> 35kcps <10.0 &mu;m <1.00 eV ;
&bull;> 70kcps <15.0 &mu;m <1.00 eV ;
&bull;> 125kcps <20.0 &mu;m <1.00 eV ;
&bull;>3Mcps High <1.30eV Power Mode ;
&bull;离子枪最大电流>5.0 &mu;A @ 5 kV ;
&bull;离子枪工作时候分析室内压力< 5x10-8 torr;
&bull;扫描单色聚焦9umX射线源用于快速化学状态图像;
 
产品特点:
&bull;美国专利 ;
&bull;日本技术;
&bull;化学分析用全自动扫描X-射线光电子能谱仪;
&bull;180&deg;半球型电子高分辨率能量分析器以及适用于小面积分析的大角度电子接受系统;
&bull;独一无二的32通道检测器和快捷的电子系统用于获得最大的灵敏度和数据采集;
&bull;扫描单色聚焦9umX射线源用于快速化学状态图像;
&bull; 自动双束荷电(电子束和低能Ar离子束)补偿系统;
&bull;全自动5轴(X, Y, Z, 旋转,倾斜),精密样品台 样品台可以准确地移动到100mm直径样品的任何一点 ;
&bull;计算机控制的100 V到0. 5 kV氩离子枪用于样品表面清洗以及深度剖面分析(包括Zalar Rotation功能).;
&bull;在做角分辨XPS分析时候可以自动选择大小接受角度 ;
&bull;具有所有分析功能包括低分辨全范围定性分析, 高分辨定量/化学状态分析, 深度剖面分析,线扫描分析, 化学状态图像分析,自动分析和用户自己设定分析;
&bull;数据处理功能强,如去除本地,平滑化处理, 峰识别, 最小二乘法拟合, 多因子分析法,峰分离,从图像,线扫描以及深度剖析分析中抽出多种化学状态峰;
&bull;UHV可兼容不锈钢分析室;
&bull;360 l/s离子本泵(带有钛升华泵),自动烘烤系统;
&bull;独一无二全自动快速进样系统75mm方形样品台,自动数码照相定位系统;

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