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仪器介绍：
在镀膜或刻蚀的过程中，实时监测样品膜的膜厚以及光学常数（n,k）变化。
技术参数：
·可实现快速、实时在线监测样品膜层变化
主要特点：
将激发和探测头引入生产设备，可实现:
· 动态模式:实时监测膜厚变化
· 光谱模式：监测薄膜的界面和组分
在镀膜或刻蚀的过程中，实时监测样品膜的膜厚以及光学常数（n,k）变化。
技术参数：
·可实现快速、实时在线监测样品膜层变化
主要特点：
将激发和探测头引入生产设备，可实现:
· 动态模式:实时监测膜厚变化
· 光谱模式：监测薄膜的界面和组分
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