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薄膜沉积控制仪
QuarkTM Rack Mounted Deposition Controller
全集成石英晶体薄膜沉积控制器
菲利浦质子科技通过前沿的频率-温度补偿技术带来了高分辨率的薄膜沉积控制系统,标准的19英寸机械安装架和多功能的触屏显示器。
整合了Nucleus PlusTM 技术，薄膜沉积控制仪在模块化的基础上建立了温度测量薄膜
控制系统。支持扩展4个输入输出口和探头（2个标准仪器），实时的频率-温度曲线
和500℃操作晶体。传统的检测和测量手段由于忽视了晶体温度的变化带来了极大的
误差，通常误差为10%，在错误的环境下误差可以为100%。菲利浦通过监测实时的温
度变化，从而对薄膜进行高精度极低误差控制。
薄膜沉积控制仪有非常高的稳定度和菲利浦产品惯有的精密度。6MHz（AT or RC
）的石英晶体前所未有的应用在了薄膜沉积领域。
功能齐全
可扩展的额外组件比如前面板的外部控制界面和后面板的探头、I/O卡。Millennium 控制系统包含一个过温控制继电器（以防探头冷却失灵）和输入/输出的可编辑性，给您全部的软件功能控制。
技术参数
探头2个BNC 连接端（需要外部振荡器）
温度2 type K TC
输入源2 0-5 VDC 输入控制
继电器（不可编辑） 2个单刀单掷开关
输入端（可编辑） 8个独立的5V输入端
输出端（可编辑） 8个5A单刀单掷开关继电器
远程电源手动电源控制-前面板FOB连接头
可扩展输入源卡2个输入源、探头、继电器和type K TC
输入：8个独立的5V输入端
输出：8个5A单刀单掷
DAC 记录器可根据用户的选择出发
参数用户可以扩展 0-5V输出速率和厚度
测量参数
频率分辨率0.001Hz@6MHz(1s一个点）
采样率0.5Hz to 100Hz
传感器晶体频率5,6,7,8,9,10MHz
显示参数
厚度（自动量程） 9999.9 to -999 kA
速率 (自动量程) 9999.9 to -999 A
电源00.00 to 99.99%
时间0 to 99:59:59 HH:MM:SS
层数0 to 999
屏幕800x480 Full Color Touch Screen
标准硬件
可扩展I/O卡
连接参数
标准方式：RS232 USB(Process Programming)
可选方式：以太网
创建程序：所有程序可以通过触摸屏和键盘编辑CactusProg
可以在PC上创建菜单并可以通过U盘等闪存转移性能无限制的操作选项和编程
性能 无限制的操作选项和编程
标准参数
PTTC-RM QUARK主机+1个探头+1个输入输出口
PTTC-RM2 QUARK主机+2个探头+1个输入输出口
PTTC-RM4 QUARK主机+2个探头+2个输入输出口
PTTC-RME1 QUARK主机+1个探头+2个输入输出口+以太网
PTTC-RME2 QUARK主机+2个探头+1个输入输出口+以太网
PTTC-RME4 QUARK主机+2个探头+2个输入输出口+以太网
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