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用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVS
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
Throughput: >475 wafers/hr
SiNx uniformity: < ?5%
产率:>475硅片/小时。
氮化硅膜不均匀性:< 5%。
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型号:MVS
型号:MVS-PECVD
型号:Reel to Reel Cassette System
型号:Cluster
型号:MVS-sputter
型号:BCT400
型号:WCT-120
布劳恩惰性气体系统
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