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大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
测量范围: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波长范围(200-1700nm)：
1年
是
有
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