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美国NXQ以卓越的性能，经济的价格，深受全球用户喜爱，截至2016年底，超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室，研发中心。
NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统，融合了独立的模块化设计，精准控制对准和曝光等特点，自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用，适合实验室多用户使用。
该系统特点：
锲型误差补偿系统----独特的WEC设计
紫外灯源的多样性选择
曝光光路的精准控制
视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换
高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准
使用领域（包括但不限于下述领域的光刻工艺）
微电子
LED/HBLED
3D IC /晶圆制造工艺
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半导体
太阳能（HCPV）
光电子
型号：
NXQ4006半自动型（可处理最大6英寸基片）
NXQ4008半自动型（可处理最大8英寸基片）
紫外掩膜对准曝光系统信息由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供，如您想了解更多关于紫外掩膜对准曝光系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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