仪器对比
关注
磁控溅射技术
GSC-1000磁控溅射系统概述：
带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
GSC-1000带有10"派热克钟罩腔体，2个2"的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。
产品特点：
不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
| 选配项： Thickness Monitor 膜厚监测 |  |
应 用：
|
磁控溅射系统信息由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供，如您想了解更多关于磁控溅射系统报价、型号、参数等信息，德国韦氏纳米系统客服电话：400-860-5168转3855，欢迎来电或留言咨询。
相关产品
