美国OAI光刻机 5000E

报价 ¥400万 - 500万

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仪器对比

品牌

暂无

型号

5000E

产地

美洲美国

应用领域

暂无

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

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金牌会员
第5年

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产品详情

美国OAI光刻机 5000E

详细介绍

型号5000E大面积光刻机用于基板和显示器

OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶级，亚微米对准和分辨率。其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的LED显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。

Model 5000E Large Area Mask Aligner for Substrates and Displays
The OAI Model 5000E Large Area Mask Aligner is an advanced, high-performance, fully-automated mask Aligner and exposure tool that delivers ultra precise, Topside, sub-micron alignment and resolution for large, flat panel applications. Its flexible design allows printing on various substrates - round or square - up to 300mm or 20”x20”. The exposure system is compatible with photo resist in Near, Mid, or Deep UV range, and features computer-controlled LED microscope lighting for viewing in less-than-ideal viewing environments.

售后服务

保修期： 1年

是否可延长保修期：否

现场技术咨询：无

免费培训：免费安装及技术培训

免费仪器保养： 6个月一次。

保内维修承诺：经确认质量问题，免费更换。

报修承诺： 24小时内到达现场并开始维修

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