德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD

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品牌

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型号

SI 500 PPD

产地

欧洲德国

应用领域

暂无

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

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德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD

102. Si500 PPD.png

过程的灵活性

PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺，a- si在室温到350℃之间。

真空loadlock SI 500 PPD的特点是真空加载锁定和干燥. 抽油机适用于无油、高产量和沉积过程的清洁度。

SENTECH控制软件

用户友好的强大软件包括模拟GUI、参数窗口、食谱编辑器、数据日志和用户管理。

SI 500 PPD是一种先进的等离子体增强化学气相沉积介质薄膜的工具，硅、碳化硅和其他材料。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，

控温基片电极，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。

从直径200毫米的晶圆片到装载在载体上的各种基板，都可以在SI 500 PPD等离子体沉积仪。单片【真空负荷锁定】保证了稳定的工艺条件和可以方便地切换进程。

SI 500 PPD等离子体增强沉积工具被配置成在a中沉积SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜

温度范围从室温到350℃。解决方案可用于TEOS, SiC，以及其他具有液态或气态前体的物质。SI 500 PPD适用于介质的沉积用于蚀刻掩膜、薄膜、钝化膜、波导等的薄膜和非晶态硅。

SENTECH提供不同水平的自动化，从真空盒加载到一个过程室到六个端口集群，不同的沉积和蚀刻模块，以高灵活性或高吞吐量为目标。SI 500 PPD也可以作为集群配置上的进程模块。

PECVD SI 500 PPD

PECVD等离子体沉积工具与真空loadlock

高达200毫米晶圆

衬底温度从RT到350℃

低应力薄膜可选低频混频

TEOS和其他液体前驱体的来源

干式抽油机

售后服务

保修期： 1年

是否可延长保修期：否

现场技术咨询：无

免费培训：免费安装及技术培训

免费仪器保养： 6个月一次。

保内维修承诺：经确认质量问题，免费更换。

报修承诺： 24小时内到达现场并开始维修

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