牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE
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离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。
。多模式功能
。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作
。双束流配置
。更低的表面薄膜粗糙度
。更佳的批次均匀性和工艺重复性
。准确终点监测 —— SIMS,发射光
产品特点:
· 质量薄膜高 ——超低污染
· 产量高,紧凑的系统体积设计 ——运行成本低
· 已获得专利的高速衬底架(高达1000RPM)设计,并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为准确的实时光学薄膜控制
· 配置灵活 ——适于先进的研究应用
· 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式
应用:
· 磁阻式随机存取存储器(MRAM)
· 介电薄膜
· III-V族光电子材料刻蚀
· 自旋电子学
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· 金属电极和轨道
· 超导体
· 激光端面镀膜
· 高反射(HR)膜
· 防反射(AR)膜
· 环形激光陀螺反射镜
· X射线光学系统
· 红外(IR)传感器
· II-VI族材料
· 通信滤波器