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Centrotherm 卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000
品系列包括：氧化炉、退火炉、扩散炉、真空烧结炉等。
目前已有数千台Centrotherm设备安装在世界各地，被广泛地应用于半导体IC、MEMS微机电系统、3D封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域，尤其在SIC领域的应用更具有优势。
E1200卧式热反应系统
一、 产品简介
E1200型卧式热反应系统是由德国centrotherm公司研制的特为研发、小批量生产用热反应系统。具有小体积、高工艺性能等特点
可用作常压CVD、LPCVD、PECVD、扩散、氧化、退火等工艺过程，以优良的品质、极小的体积、低成本的特点，特别适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产。
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二、 工艺特性
常压工艺
LPCVD工艺
PECVD工艺
三、 产品特性
最多可搭配4组石英管或碳化硅管反应炉；
清洁的自动载舟系统；
反应炉独立控制提供了优质的小批量或复杂工艺能力；
先进的水冷却系统设计杜绝反应炉的温度干扰不耗用洁净室空气；
设备参数：
反应炉使用晶片尺寸：150mm（最多50片）或200mm（最多25片）
加热系统：3组300mm恒温区，温差0.5℃；
温控范围：200℃～1300℃；
可处理工艺气体种类：H2、Ar、N2O、N2、SiH4、NH3、B2H6、PH3、SiH2Cl2；
系统总功率：55kW
电源供给：400V.80A；
压缩空气：600～1000kPa；
冷却水流量：50～70LPM
排气能力：400m3/H
E1550-初步小规模生产的卧式炉
centrotherm E1550 最优化系统，支持多种工艺能力，适用于中等生产能力和高工艺性能用户，是一款安全、可靠、易于维护的卧式扩散炉平台。该炉可高达4层石英管或SiC工艺管， 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势， E1550 可以生产出极具成本效益的产品。
特点：
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试
E2000-大批量生产的卧式炉
centrotherm 2000专为大批量生产而设计，支持多种工艺能力，适用于大批量生产和高工艺性能的用户，并具有突出的高性能、占地面积小、低购置成本等优势。该产品对多种应用要求的高工艺具有的灵活性，并可高达4层石英管或硅片尺寸可达300毫米的SiC工艺管
特点：
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试
1年
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技术人员现场培训
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