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该系统采用恒定光电流法分析半导体薄膜和各种光导材料的带隙结构,是评价非晶硅和各种非晶半导体的理想方法。
规格:
原理:恒流法(CPM)
光源:氙灯或卤素灯
工作范围:约4小时,13 - 0.59 ev (300 - 2100 nm)
辐照面积:6 x6mm
辐照强度:2 nw-2mw
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 免费培训
免费仪器保养: 一年一次
保内维修承诺: 一年保修
报修承诺: 一周内上门维修
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