原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard
报价 ¥100万 - 200万
仪器对比
关注
PICOSUN® R-200标准型ALD系统适用于数十种应用领域的研发，如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器，以及3D物品，如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。
底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底（使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳） 粉末与颗粒（配备扩散增强器） 多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品 |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 450 °C（加等离子） |
基片传送选件 | 气动升降（手动装载） 预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ） |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源、等离子体 6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上plasma管路共7根独立源管线） |
重量 | 350kg |
尺寸（ W x H x D)） | 146 cm x 146 cm x 84 cm（小） 189 cm x 206 cm x 111 cm（大） |
选件 | PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集 成（用于惰性气体下装载）。 |
工艺 | Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN，金属如Pt或Ir |
售后服务
90天
1年
安装调试现场免费培训
2天内
- 相关仪器
原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard信息由北京正通远恒科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于 原子层沉积系统（ALD）R-200 Standard报价、型号、参数等信息，北京正通远恒客服电话：400-860-5168转0338，欢迎来电或留言咨询。
相关产品
