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原子层沉积系统(ALD)R-200 Standard

报价 ¥100万 - 200万

品牌

Picosun

型号

R-200 Standard

产地

欧洲芬兰

应用领域

暂无
该产品已下架

PICOSUN® R-200标准型ALD系统适用于数十种应用领域的研发,如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器,以及3D物品,如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。

底尺寸和类型


50 – 200 mm /单片

156 mm x 156 mm 太阳能硅片

3D 复杂表面衬底(使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳)

粉末与颗粒(配备扩散增强器)

多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品

工艺温度

50 – 500 °C, 450 °C(加等离子)

基片传送选件

气动升降(手动装载)

预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )

前驱体

液态、固态、气态、臭氧源、等离子体

6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上plasma管路共7根独立源管线

重量

350kg

尺寸( W x H x D))

146 cm x 146 cm x 84 cm(小)

189 cm x 206 cm x 111 cm(大)

选件

PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集

成(用于惰性气体下装载)。

工艺

Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN,金属如Pt或Ir


售后服务

90天

1年

安装调试现场免费培训

2天内

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