高真空离子溅射仪

报价 ¥36万

综合评分暂无

仪器对比

品牌

Ted Pella

型号

208HR

产地

其他其他

应用领域

暂无

北京中镜科仪技术有限公司

营业执照已认证

银牌会员
第16年
一般经销商

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产品详情

2 0 8HR 高分辨离子溅射仪是场发射扫描电子显微镜
（FESEM）样品表面导电处理的理想设备。FESEM制样要求导电镀层在保持连续均匀的条件下，镀层粒子的粒径尽量的小，进而不会影响样品表面精细微观结构的观察。为了得到高质量的镀层， 208HR提供了所需的溅射沉积条件。其中，208HR的真空系统配备了前级机械旋片式真空泵或者无油隔膜泵，二级真空为涡轮分子泵作来提高
样品室的真空度，从而使溅射镀层的粒度均匀细小，满足FESEM的制样要求。
此外，自动智能的控制系统，使得操作更加简单容易，并且有很好的重复性。
常用的溅射镀膜材料：
Pt/Pd: 多用途的高质量的非导电样品的溅射镀膜材料
Cr: 半导体材料和高分辨背散射电子成像的理想材料
Ir:高性能、粒径均一的镀膜材料

主要特点：

1、配合不同的靶材可溅射多种材质的薄膜

2、高精度的膜厚控制（选配MTM-20 膜厚监控仪）
3、多角度的旋转样品台支架，使得成膜更加均匀
4、多孔样品台支架

行星式旋转样品台

5、高度可变的真空腔，使得成膜速率在1.0nm/sec到0.002nm/sec之间可调。
6、0.2 - 0.005 mbar大范围的工作气压
7、紧凑、现代、桌式设计节省了空间
8、操作简单安全，抽气、溅射、放气智能一体化程序设计

Specifications
溅射磁头 Sputter head	低电压平面磁控管Low voltage planar magnetron 快速方便靶材装卸Quick target change 环绕暗场保护Wrap-around dark-space shield 遮板调试靶材Shutter for target conditioning
靶材 Targets	标配：Cr, Pt/Pdor IR (Iridium coater) 选配： Au, Au/Pd, Cu, Ni, Pd, Pt, Ta, Ti and W
溅射配套系统 Sputter supply	微程序处理器Microprocessor based 安全联锁装置Safety interlock 不受真空度影响的恒电流控制系统Constantcurrentcontrol independent of vacuum 数显可选电流Digitally selectable current (20, 40, 60 or 80mA)
样品台 Sample stage	行星式0-90°手动旋转样品台Non-repetitive rotary, planetary motion with manual tilt 0-90° 转速可调Variable speed rotation 4样品台支架Crystal head 4 sample holders
仪表 Analog metering	真空度：大气压-0.001mbVacuum Atm - .001mb 工作电流：0-100mACurrent 0-100mA
控制模式 Control method	自动抽放气Automatic operation of gas purge and leak functions 全自动溅射操作Automatic process sequencing 可暂停数显时间设置 Digital timer(0-300 sec) with pause 自动放气 Automatic venting
真空系统 Pumping System	涡轮分子泵和旋片式机械真空泵 Turbo drag / rotary pump combination
抽气速率 Pumping speed	300 l/min at 0.1mb
抽气时间 Pumpdown Time	1 min to 1 x 10-3mb
极限真空 Ultimate pressure	1 x 10-5mb