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样本下载LJ-18M磁控离子溅射仪是由裕隆时代精心设计制造的新一代磁控镀膜系统。
配置平面磁控靶头,膜层均匀致密,大幅提升镀膜效率,降低样品表面温度。
特别适用于薄膜、生物等对热敏感样品镀膜、高分辨钨灯丝或场发射扫描电镜样品制备,及电极制作等领域。
● 配置高质量真空系统和微调阀,结合自动控制电路,预置工作真空和电流,无需反复调节,
● 操作极为简洁。可自选所需电离气体(氩气,空气),以获得最佳镀膜效果。
● 棱角成型工艺制成高强度真空玻璃罩,防止轻易磕碰损伤及边缘“崩边”。
● 标配Ф57mm X 0.12mm大尺寸铂靶,溅射范围更大,靶材使用时间更长。
● 高级铝制机箱,机身小巧,坚实美观。模块化设计,便于安装及检修。
标准配置
型号 | 技术参数 | |
1 | LJ-18M | 1.1溅射靶头:平面磁控靶头 1.2溅射电流:0-100mA 1.3玻璃处理室: Ф 125mm x 130mm 1.4试样台尺寸: Ф 40mm,可同时放6个样品台 1.5靶材尺寸: Ф57mm X 0.12mm 1.6真空系统: 直联旋片真空泵,2L/S 1.7真空保护: 20Pa,配有微量气体调节阀控制工作真空 1.8工作电源: 220 VAC 50Hz 1.9定时开关: 控制溅射时间,范围10~110S。 1.9可用靶材: 铂靶(标准配置),金靶,铜靶,银靶等 1.10工作气体: 空气或氩气 |
20000倍塑料薄膜样品
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