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商用集成电路的制造关键取决于通过化学机械平坦化(CMP)将硅晶片表面抛光至接近原子平坦度的磨料浆料颗粒的物理和化学性质。磨料浆料(Slurry)中含有相对较少>1.0μm的颗粒(如二氧化硅、氧化铝)，这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。因此，磨料浆料(Slurry)颗粒的大颗粒计数(LPC) 是CMP艺中的关键因素。
PLD-FX-801液体颗粒计数器基于光散射法和光阻法双模式的检测原理，采用普洛帝核心技术第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制和在离线自动稀释系统，可以用于评估研磨液中的不良颗粒以及这些颗粒的浓度。PLD-FX-801 液体颗粒计数器可以有效帮助我们确认系统中的颗粒污染源，评估过滤的有效性以及减少选些不良颗粒带来的风险。
产品优势：
应用：创新性、多用途、多模块条件；
技术：第八代双激光窄光检测技术应用；
软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；
输出：IPAD数据采集技术使用；
在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。
离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。
应用范围：
应用于CMP POU 供应前段一供给设备的Final out 处检测出Slurry内的引起scratch & defect 的LargeParticle，从而预防事故的发生；
应用于检测区分Slurry good/bad test ，good/bad slurry, 在供给端分析而预防事故的发生；
应用于电子半导体行业纯水中颗粒监测分析；
应用于电子半导体行业电子化学品中颗粒监测分析；
技术参数：
订制要求：各类液体检测要求；
传感器：第八代双激光窄光检测器；
测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；
测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；
操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；
检测范围：0.5-100.0um；
特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µm（c）微粒，0.1μm或者0.1µm（c）任意检测；
取样方式：精准计量泵；
进样精度：<±1%
精确度：<±3%典型值；
重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；
模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）；
报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；
输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；
售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。
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