方案摘要
方案下载应用领域 | 电子/电气 |
检测样本 | 电子元器件产品 |
检测项目 | |
参考标准 | 薄膜均匀性检测 |
★超薄,纳米尺度介电薄膜与金属/金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件,传感器,光学器件或催化剂关键部件 ★IC业中的高精度30器件, 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔, ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形,平整,无缺陷,无针孔的薄膜材料。 ★可规模化生产的ALO工艺, 几种金属/金属性材料与介电材料: Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203. ★沉积工艺可选:传统热ALO或者等离子增强ALD。
★超薄,纳米尺度介电薄膜与金属/金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件,传感器,光学器件或催化剂关键部件
★IC业中的高精度30器件, 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔, ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形,平整,无缺陷,无针孔的薄膜材料。
★可规模化生产的ALO工艺, 几种金属/金属性材料与介电材料: Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.
★沉积工艺可选:传统热ALO或者等离子增强ALD。
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