型号: | GS |
产地: | 韩国 |
品牌: | NCD |
评分: |
|
晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
应用:
1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
3.大规模生产的应用
4.工业全自动生产设备
5.高产量:高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)
特征:
1.良好的厚度&均匀性好的Al2O3薄膜
2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积
3.具体化的ALD机械装置
4.全集成工艺模块
5.操作过程简单
6.自动式操作
技术规格:
Model | Material | Wafer Size(mm2) | Thickness (nm) | Throughput(wph) |
---|---|---|---|---|
LucidaTM GS200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥550 |
LucidaTM GS800 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥2300 |
LucidaTM GS1200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥3400 |
LucidaTM GS1600 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥4500 |
LucidaTM GS6000 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ≥6000 |
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