太阳能电池钝化用ALD设备
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参考价:面议
型号: GS
产地: 韩国
品牌: NCD
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核心参数
南京伯奢咏怀电子科技有限公司
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产品详情

晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统

ALD for surface passivation of c-Si solar cells


应用:

   1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积

   2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积

   3.大规模生产的应用

   4.工业全自动生产设备

   5.高产量:高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)

特征:

   1.良好的厚度&均匀性好的Al2O3薄膜

   2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积

   3.具体化的ALD机械装置

   4.全集成工艺模块

   5.操作过程简单

   6.自动式操作

技术规格:


ModelMaterialWafer Size(mm2)Thickness (nm)Throughput(wph)
LucidaTM GS200Al2O3156x1564550
LucidaTM GS800Al2O3156x15642300
LucidaTM GS1200Al2O3156x15643400
LucidaTM GS1600Al2O3156x15644500
LucidaTM GS6000Al2O3156x15646000




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